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典型高純水設備的設計過(guò)程概述

作者:龍創(chuàng )環(huán)保 來(lái)源: 時(shí)間:2022-04-06 09:23:58 瀏覽次數:

A.設計依據

原水水質(zhì)和工藝用水水質(zhì)要求。

B.原水水源及水質(zhì)

原水水源:見(jiàn)用戶(hù)提供的水質(zhì)報告單,鑒于季節對水質(zhì)的很大影響,應有一年四季的原水水質(zhì)分析報告。
C.設計規模

產(chǎn)水量:根據客戶(hù)提供的用水量統計或要求而定。

D.工藝用水水質(zhì)

滿(mǎn)足相關(guān)藥典質(zhì)量要求的水,如采用RO+EDI的高純水設備,最終純水質(zhì)量符合新版的歐盟藥典、美國藥典和中國藥典的質(zhì)量要求。

E.公用系統要求

1、原水應滿(mǎn)足或處理成飲用水標準,其供給能力大于純水設備的生產(chǎn)能力;

2、如果系統中配置換熱器進(jìn)行消毒,一般需要3bar以上的工業(yè)蒸汽;

3、用于控制系統的壓縮空氣壓力一般為5.5-8bar,用于預處理部分反洗的壓縮空氣壓力一般為2bar;

4、不同生產(chǎn)能力的設備對電源功率要求不一樣。

F.控制系統

高純水設備控制系統通常采用PLC自動(dòng)控制和手動(dòng)控制。如果設備正常運行時(shí)采用PLC控制,如果遇到緊急情況或設備處于非正常工作時(shí)系統可采用手動(dòng)控制??刂葡到y要監控操作參數如進(jìn)水的PH值、進(jìn)水電導率、進(jìn)水溫度和終端產(chǎn)品質(zhì)量(如PH、電導率和溫度等),這些參數用可校驗的并可追蹤的儀表來(lái)測量,可以用手寫(xiě)的或電子記錄,包括有紙的或無(wú)紙的記錄系統來(lái)記錄相關(guān)數據。

G.典型的工藝流程

高純水設備主要的工藝過(guò)程可描述為預處理+脫鹽+后處理。

電鍍是利用化學(xué)和電化學(xué)方法在金屬或在其它材料表面鍍上各種金屬。電鍍技術(shù)廣泛應用于機器制造、輕工、電子等行業(yè)。電鍍污水水質(zhì)較復雜,電鍍污水中含有鉻、鋅、銅、鎳、鎘等重金屬離子以及酸、堿、氰化物等具有很大毒性的雜物。電鍍污水成分復雜,污染物可分為無(wú)機污染物和有機污染物兩大類(lèi),水質(zhì)變化幅度大,各股生產(chǎn)污水污染物種類(lèi)多樣,CODcr變化系數大;且電鍍污水毒性大,含有大量的重金屬離子,若不經(jīng)處理直接排放會(huì )對周邊水體造成極大的污染。
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